硅晶圓制作中應用的超純水設備如何?
熟悉半導體領(lǐng)域的人都知道硅晶圓,硅晶圓作為半導體電路的核心組件,是一種承載物,為了制成半導體積體電路的原材料。所以,半導體質(zhì)量的好壞與硅晶圓生產(chǎn)息息相關(guān)。
我們發(fā)現(xiàn)為了保證硅晶圓質(zhì)量,其清洗用水多為高質(zhì)量的超純水,因為只有超純水作為清洗用水才能保證硅晶圓的品質(zhì),保證硅片無雜質(zhì)吸附,那么什么樣的超純水設備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水呢?
采用預處理+反滲透+EDI+拋光混床的工藝組合形式的超純水設備方可制備出高質(zhì)量的超純水。這類硅晶圓超純水設備具有高效低能、運行成本低,水資源利用率高、體積較小、維修量小,運行的時間長等優(yōu)點。設備應用的EDI模塊水處理過程中不需要添加任何化學品,不僅減少了化學品運輸問題,同時降低了系統(tǒng)運行費用。本模塊不會有酸堿廢液產(chǎn)生,所以不需要酸堿中和池,一般情況下,EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)出的濃水完全可以回收再利用。
硅晶圓超純水設備還具有無需樹脂再生,自動化性能強,無需人工操作等優(yōu)勢。設備能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,采用的設計結(jié)構(gòu)相對靠緊,所以其占地非常小,可以為企業(yè)節(jié)省很多空間,在符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標準的同時可以使水資源的利用率達到80%左右,有效提升了水資源利用率。
隨著科技的不斷進步,半導體行業(yè)不斷的發(fā)展,我國對于該行業(yè)的政策支持,使得硅晶圓的市場需求也在不斷增加,超純水的需求也在悄然的增加。
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