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半導(dǎo)體生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備都由哪些工藝組成?

時(shí)間:2023-09-19

  半導(dǎo)體是作為一種電子性質(zhì)介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料,具有重要的電子學(xué)和光電學(xué)性質(zhì),廣泛用于電子、光電和信息技術(shù)領(lǐng)域。其在制造過(guò)程中需要清洗的超純水,幾乎每道工序都需要超純水作為清洗用水,為了更好地為半導(dǎo)體生產(chǎn)清洗用水供給,超純水設(shè)備也在增加生產(chǎn)力度。

  目前,半導(dǎo)體生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)工藝,核心是采用的膜法技術(shù),應(yīng)用反滲透工藝與EDI和混床工藝來(lái)生產(chǎn)超純水,不僅產(chǎn)水量增加,出水電導(dǎo)率可達(dá)18.2mΩ, 滿足了芯片行業(yè)用水需求。

超純水設(shè)備

  該超純水設(shè)備采用的核心工藝組成介紹如下:

  1、反滲透工藝:利用反向滲透原理,有效除去水中溶解鹽類、有機(jī)物、膠體、大分子物質(zhì)等,降低水質(zhì)的離子含量。

  2、EDI模塊:無(wú)需酸堿再生,運(yùn)行成本低,EDI系統(tǒng)的自動(dòng)化程度很高,可以連續(xù)工作,出水水質(zhì)好且穩(wěn)定,出水電阻率≥15MΩ·CM。

  3、拋光混床工藝:專門用于高純度的水處理系統(tǒng)中的終端精制器,能夠?qū)⑺械碾x子含量降到PPB級(jí)別,出水電阻率可達(dá)18.2MΩ·CM。

  以上,介紹的工藝就是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用的超純水設(shè)備核心工藝組成。萊特萊德水處理設(shè)備公司超純水設(shè)備在保證出水達(dá)標(biāo)的同時(shí),還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴(kuò)建前瞻預(yù)判等細(xì)節(jié),為半導(dǎo)體生產(chǎn)提供了高品質(zhì)的超純水。

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  編輯:柒柒   技術(shù):米

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